中国光刻机现在多少纳米（中国自产光刻机多少纳米）

芯片是高精密集成电路的体现，也是现代电子工业发展的顶尖水平代表之一。制造高精度制程的芯片，需要优质光刻机，而世界上有高级光刻机的国家，美国禁令不准向中国出口。

中国科学院光电研究所，造出新型超分辨率光刻机，能够实现22NM工艺制程，现在已经投入使用，现在我国在光刻机领域取得的突破，能够实现高分辨，大面积的纳米光刻研发路线，等于是闯出了一条新路子，能够绕开国外同领域的知识产权壁垒和阻碍，形成具有我国专利技术的光刻机生产新模式。

尤其这款超分辨率光刻机还有一个喜人的消息，目前最高线宽分辨率为22nm，一旦突破分辨力的衍射极限的情况下，未来能够生产10NM制程精度的芯片。这意味着我国芯片领域也看到了研发成功的曙光，而且进展的速度是非常快的。

现在这款超分辨光刻机通过了严格的检测和验收，已经投入使用，能够进行生产芯片。

我国的芯片领域发展缓慢，最重要的原因就是受制于光刻机，我国自己没有先进的设备，国外又不出口给我国，导致我国在这个领域的水平处于落后的局面。

目前取得的成就，是中科院光电所科研团队，经过了长达7年时间的攻关和研发，才获得了阶段成果，接下来为了更高制程精度的芯片助力，会继续进行设备研发的相关工作。这台设备在很多项关键技术方面，都攻克了难题，是分辨力最高的紫外光源，波长为365纳米，曝光线宽分辨力是22纳米。

光刻机分辨力越高，能够生产的芯片集成度，也就是制程精度就会越高。现在我国在光刻机研发方面，已经走出了具有中国科研特色的自主研发之路，未来会继续突破传统的研发框架，创新研究，为提升更好的设备水平，进行不断的优化和提高。

未来在技术取得新的进展之后，可用于制造10纳米精度制程的芯片！这对我国目前只有28纳米成熟技术的芯片制程来说，是非常大的激励和进展。

光刻机是怎样工作呢？当设计好的芯片图案定型，使用光刻机的光源，在芯片上进行刻录，这个过程说起来并不复杂，看上去也简单，但是实施起来，世界科技却整整走过了50多年的时间。国际方面才有最先进的5纳米制程精度的芯片，以及7纳米制程精度的芯片。

作为世界最先进的3纳米芯片，韩国三星电子，和已经搬到了美国的台积电，都嚷嚷了两三年的时间了，还是只打雷没看到下雨，没有量产的行动和实际产品上市，这也说明，精度越高的芯片，工艺制程越复杂和难以实现，面临的技术难题和加工工艺要求就越多。

目前世界上的顶级光刻机企业是荷兰的阿斯麦，这家企业自然也接到了美国的限制禁令，不准许阿斯麦把顶尖的光刻机出口给中国，就为防止中国得到新设备的助力后，在芯片领域有新的技术突破，美国政府甚至向荷兰政府直接施加压力，目的让荷兰也要执行美国的限令，不要对中国出口光刻机。

荷兰政府和阿斯麦公司没有同意，不想损害荷兰和中国的贸易关系，中国市场是荷兰光刻的世界第三大市场，阿斯麦公司的全球营业额当中，中国的进口金额达到了其总额的百分之十四以上，所以说中国市场是非常重要的，荷兰方面也是在找机会，根据情况尽量履行和我国之间关于与光刻机贸易的合约。

美国方面是狂妄地发布命令，恨不能全世界都听自己的，然而，就算美国不算施加压力，中国的科技发展，依然在稳步前进，中国的芯片领域，光刻机设备，研发和进程也没有因为美国的限制而受到影响，现在已经投入使用的超分辨力光刻机，为我国的芯片水平提升，会起到非常重要的推动作用。

芯片设计出来后，只有通过更加给力的光刻机，才能生产出来制程精度更高的产品。

面对美国的无理阻挠，中国科技发展还是任重道远，没有压力也是不可能的，但是随着中国高新科技企业持续发力，中国科研能力不断提升，未来在光刻机领域，中国很可能会形成独树一帜的研发突破，到时中国芯片的制造水平，也会迅速得以提升。